真空鍍膜機是化工試驗裝置，反應裝置，微反應裝置概念及方法材料

真空鍍膜機是化工試驗裝置，反應裝置，微反應裝置概念及方法材料 
主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體(ti) 包括很多種類,包括真空鍍膜機,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。

真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發並凝結於(yu) 鍍件（金屬、半導體(ti) 或絕緣體(ti) ）表麵而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。
真空鍍膜是化工試驗裝置，反應裝置，微反應裝置，靜電紡絲(si) 設備是真空應用領域的一個(ge) 重要方麵，它是以真空技術為(wei) 基礎，利用物理或化學方法，並吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一係列新技術，為(wei) 科學研究和實際生產(chan) 提供薄膜製備的一種新工藝。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發或濺射，使其在被塗覆的物體(ti) （稱基板、基片或基體(ti) ）上凝固並沉積的方法。

真空鍍膜是化工試驗裝置，反應裝置，微反應裝置，靜電紡絲(si) 設備的方法材料：
(1)真空蒸鍍：將需鍍膜的基體(ti) 清洗後放到鍍膜室，抽空後將膜料加熱到高溫，使蒸氣達到約13.3Pa而使蒸氣分子飛到基體(ti) 表麵，凝結而成薄膜。
(2)陰極濺射鍍：將需鍍膜的基體(ti) 放在陰極對麵，把惰性氣體(ti) (如氬)通入已抽空的室內(nei) ，保持壓強約1.33～13.3Pa，然後將陰極接上2000V的直流電源，便激發輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基體(ti) 上形成膜。

(3)化學氣相沉積：通過熱分解所選定的金屬化合物或有機化合物，獲得沉積薄膜的過程。
(4)離子鍍：實質上離子鍍係真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機結合，兼有兩(liang) 者的工藝特點。