關於中試裝置的完整性

中試裝置的完整性是個(ge) 相對的概念。如果中試流程與(yu) 將來的工業(ye) 裝置工藝流程*相同，則為(wei) 完整。因為(wei) 代價(jia) 太大，所以一般不作為(wei) 方案。

一般流程結構主要包括原料前處理，核心反應，產(chan) 品後處理，循環四個(ge) 主要部分，如果對原料前處理或產(chan) 品的後處理確有把握（通常是指常規技術，或已有類似的工業(ye) 實例），可將其中之一或全部省略。

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